%A 伍醒, 蒋爱华, 程勇 %T 射频功率对DLC薄膜结构和力学性能的影响 %0 Journal Article %D 2019 %J 真空 %R 10.13385/j.cnki.vacuum.2019.04.08 %P 34-36 %V 56 %N 4 %U {http://www.vacjour.com/CN/abstract/article_92.shtml} %8 %X 使用射频磁控溅射,以高纯度碳靶材和高纯度甲烷为碳源,在不同射频功率下制备了类金刚石(DLC)薄膜。利用扫描电镜、傅里叶变换红外光谱仪和显微硬度计测试了薄膜的结构与性能。研究结果表明:制备的薄膜致密均匀,随着射频功率的增大薄膜生长速度增大,C原子含量增大;在200W功率制备的薄膜sp3含量高,其分子结构与性能也就更偏向于金刚石,薄膜维氏硬度达到1038.26 MPa。同时发现,随制备功率的增加,DLC薄膜硬度呈先增大再减小的趋势,薄膜石墨化程度增大。