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真空 ›› 2023, Vol. 60 ›› Issue (5): 51-54.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2023.05.07

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某石英器件内部封闭孔道的等离子清洗技术

周彤, 李鹏, 曹宏利, 张海龙   

  1. 北京中科科美科技股份有限公司,北京 100190
  • 收稿日期:2022-08-12 出版日期:2023-09-25 发布日期:2023-09-26
  • 作者简介:周彤(1969-),女,江苏泰兴人,本科,研究员。

Plasma Cleaning Technology of Closed Channel Inside a Quartz Device

ZHOU Tong, LI Peng, CAO Hong-li, ZHANG Hai-long   

  1. KYVAC Technology Co., Ltd., Beijing 100190, China
  • Received:2022-08-12 Online:2023-09-25 Published:2023-09-26

摘要: 采用射频等离子体放电轰击对精密仪器、器件制造领域石英及陶瓷类器件的内部孔道表面进行处理,利用高能量等离子体轰击被清洗表面,可以使污染物通过物理作用和发生化学反应而排出,以达到清洗效果。本文对等离子体放电清洗射频屏蔽、启辉调整、工艺参数确定等过程进行了探索,并对电极间距、安装形式对启辉的影响,以及等离子体放电过程中相关工艺参数变化对器件温升的影响进行了研究。结果表明:射频输出功率越高、进气流量越大,石英器件的温升速率越快。以上研究结果为石英及陶瓷类器件的内部孔道表面处理提供了有效指导。

关键词: 石英器件, 陶瓷器件, 内部孔道, 等离子体放电, 射频清洗

Abstract: For the internal channel surface treatment of quartz and ceramic devices in the field of precision instrument and device manufacturing, RF discharge plasma bombardment cleaning is used. Pollutants are discharged through physical action and chemical reaction to achieve cleaning effect after the surface is bombarded by high-energy plasma. In this work, the process of RF shielding, luminescence adjustment and process parameters exploration during plasma discharge cleaning are explored. The influence of electrode spacing and installation form on luminescence, and the influence of the change of related process parameters on the temperature rise of the device during plasma discharge are studied. The results show that the greater the RF output power and the intake air flow, the faster the workpiece temperature rises. The above results may provide effective guidance for the surface treatment of internal channels in quartz and ceramic devices.

Key words: quartz device, ceramic component, internal channel, plasma discharge, radio frequency(RF) cleaning

中图分类号:  TB43;O461

[1] 张婧. 等离子体技术在材料领域中的应用研究进展[J]. 安全、健康和环境, 2021, 21(1): 1-7.
[2] 杨建伟. 不同等离子清洗在半导体封装中的应用研究[J]. 电子与封装, 2019, 19(5): 1-4.
[3] 孙祖琴. 等离子清洗在电子元器件中的应用[J]. 机电元件, 2010, 30(1): 13-15.
[4] 高瑞红. 等离子清洗在先进封装工艺中的应用[J]. 现代制造技术与装备, 2021(3): 100-102.
[5] OHYA Y, ISHIKAWA K, KOMURO T, et al.Spatial profiles of interelectrode electron density in direct current superposed dual-frequency capacitively coupled plasmas[J]. Journal of Physics D: Applied Physics, 2017, 50(15): 155201.
[6] MARINOV D, de MARNEFFE J F, SMETS Q, et al. Reactive plasma cleaning and restoration of transition metal dichalcogenide monolayers[J]. npj 2D Materials and Applications, 2021(5): 17.
[7] 郝飞霞. 射频等离子体抛光装置及工艺研究[D]. 西安: 西安工业大学, 2014.
[8] 杨旺, 刘学平, 夏焕雄, 等. 容性耦合等离子体腔室放电特性仿真研究[J]. 真空科学与技术学报, 2015, 35(6): 639-645.
[9] 李斌, 李进兴, 周晓剑, 等. 低压射频放电冷等离子体处理改善圆竹表面涂覆性能的影响[J]. 西南林业大学学报, 2019, 39(4): 135-141.
[10] 苏永飞. 低气压辉光放电等离子体除尘装置及实验研究[D]. 唐山: 华北理工大学, 2019.
[11] 张仲麟. 大气压介质阻挡放电等离子体调制技术其及特性研究[D]. 哈尔滨: 哈尔滨工业大学, 2018.
[12] AMRI M S, WAN N, HARUN F, et al.An improvement of plasma cleaning time towards leadframe oxidation performance[J]. Journal of Physics: Conference Series, 2020, 1529(4): 042024.
[13] 王荷军, 王波, 刘云辉, 等. 放电参量对射频容性耦合等离子体电子密度的影响[J]. 真空, 2017, 54(4): 26-30.
[14] LIU Y X, KOROLOV I, SCHUENGEL E, et al.Striations in electronegative capacitively coupled radio-frequency plasmas:analysis of the pattern formation and the effect of the driving frequency[J]. Plasma Sources Science and Technology, 2017, 26(5): 55024.
[15] 郝玲艳. 大气压沿面介质阻挡放电等离子体特性研究[D]. 济南: 山东大学, 2016.
[16] 韩乾翰. 大气压级联放电等离子体及其与材料表面处理研究[D]. 上海: 东华大学, 2022.
[17] 林茂, 徐浩军, 魏小龙, 等.放电参数变化对电感耦合等离子闭式等离子体空间分布特性研究[J]. 电工技术学报, 2022, 37(5): 1294-1304.
[18] 周倩倩, 黄城. 低气压高密度等离子体放电研究[J]. 集成电路应用, 2018, 35(9): 52-53.
[19] 赵英伟, 张文雅, 郝晓亮. 射频等离子工艺设备中的自动阻抗匹配技术[J]. 电子技术应用, 2020, 46(10): 61-63.
[20] 吴勤斌, 罗日成, 王学禹, 等. 射频容性耦合等离子体阻抗影响因素研究[J]. 真空科学与技术学报, 2020, 40(5): 458-464.
[1] 殷冀平, 乔宏, 蔺增, 巴德纯. 基于LabVIEW的朗缪尔单探针数据处理系统[J]. 真空, 2020, 57(6): 48-53.
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