VACUUM ›› 2023, Vol. 60 ›› Issue (2): 26-29.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2023.02.04
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LUO Jun-wen, LI Zhi-fang
CLC Number:
| [1] 刘佳. HDI板通孔与盲孔同步填孔电镀工艺研究[D]. 重庆: 重庆大学, 2016. [2] 李云奇. 真空镀膜[M]. 北京: 化学工业出版社, 2012. [3] 张以忱. 真空镀膜技术[M]. 北京: 冶金工业出版社, 2009. [4] 王福贞, 武俊伟. 现代离子镀膜技术[M]. 北京: 机械工业出版社, 2021. [5] 李迎春. 高功率脉冲磁控溅射在微深孔镀膜上的应用[C]//第四届粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛. 佛山: 广东省真空学会, 2020. [6] 孙亮. 电弧离子镀内孔镀膜研究[D]. 大连: 大连理工大学, 2010. [7] 达道安. 真空设计手册[M]. 3版. 北京: 国防工业出版社, 2004. [8] 李志荣, 陆创程, 罗志明, 等. 一种连续真空生产线的进出口端门: CN201620252086.1[P].2016-03-29. [9] 李志荣, 李志方, 罗志明, 等. 一种平面磁控溅射靶: CN201110033285.5[P].2011-01-30. [10] 李志荣, 李志方, 罗志明. 一种多溅射轨道的平面磁控溅射靶: CN201620124930.2[P].2016-02-17. [11] 刘玉魁, 杨建斌, 肖祥正. 真空工程设计[M]. 北京: 化学工业出版社, 2016. [12] 李志荣, 李迎春, 刘江江. 一种PVD镀膜用弧光电子源增强辉光放电表面活化工艺: CN201910129819.0[P].2019-02-21. [13] 徐成海, 巴德纯, 于溥, 等. 真空工程技术[M]. 北京: 化学工业出版社, 2006. [14] 李云奇. 真空镀膜技术与设备[M]. 沈阳: 东北工学院出版社, 1989. [15] gencoa.com/customers/apps/sputtercalc/index.php[CP]. [16] 方应翠. 真空镀膜原理与技术[M]. 北京: 科学出版社, 2014. [17] 张以忱. 真空镀膜技术与设备[M]. 北京: 冶金工业出版社, 2021. [18] 朱刚毅, 朱刚劲, 朱文廓. 配置辅助阳极的低温沉积设备: CN201820963667.5[P].2018-06-22. [19] 陆峰. 真空镀膜技术与应用[M]. 北京: 化学工业出版社, 2022. [20] 郦振声, 杨明安. 现代表面工程技术[M]. 北京: 机械工业出版社, 2010. |
| [1] | ZHANG Jian, LI Jian-hao, QI Zhen-hua. Effect of Process Parameters on SiC Film Properties under DC Magnetron Sputtering [J]. VACUUM, 2022, 59(4): 52-55. |
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