真空 ›› 2021, Vol. 58 ›› Issue (2): 42-47.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2021.02.09
石扬, 解永强, 武春晖, 暴翔, 王成君, 王永卿, 赵兴亮
SHI Yang, XIE Yong-qiang, WU Chun-hui, BAO Xiang, WANG Cheng-jun, WANG Yong-qing, ZHAO Xing-liang
摘要: 随着微电子封装向小型化、高密度化、高可靠性的方向发展,各行业对钎焊技术提出了高钎透率、高钎焊接头质量、材料具备高净化度等需求。高真空钎焊技术也随之日益普及、加速发展。该技术通过保障真空室的洁净度及焊接真空度,进而保障元器件的焊接质量及寿命。高真空钎焊技术要求真空钎焊炉具备高真空度、低压升率。高温下材料出气是高真空状态下炉体内的主要气源,直接影响着保真空时间。针对已组装完成的真空钎焊炉,本文进行了炉体材料表面放气、炉体压升率的理论研究计算;实际测试了真空钎焊炉所能达到的真空度及压升率;详细分析了高温下炉体材料表面出气特性;分析了不同温度对材料放气的影响;建立了一种材料放气-压升率模型,以期更好地指导真空钎焊炉设计。
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