真空 ›› 2018, Vol. 55 ›› Issue (6): 49-59.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2018.06.12
赵彦辉,史文博,刘忠海,刘占奇,于宝海
ZHAO Yan-hui, SHI Wen-bo, LIU Zhong-hai, LIU Zhan-qi, YU Bao-hai
摘要: 电弧离子镀是真空镀膜技术中最常用的技术之一,目前在科学研究及工业生产中都得到了长 足发展。但是在薄膜沉积过程中的工艺参数如弧电流、沉积气压、沉积温度等对薄膜结构及性能的影响多 分散于不同的文献中,不利于对这些参数的认识与深入理解。本文综述了电弧离子镀中的工艺参数的作 用,这些参数包括弧电流、弧电压、沉积气压、靶基距、基体偏压、沉积温度及外加磁场等。通过对薄膜沉 积过程中工艺参数的总结,可加深这些参数对薄膜结构及性能影响规律的理解,促进真空镀膜技术的工 艺开发及技术进步。
中图分类号:
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