真空 ›› 2020, Vol. 57 ›› Issue (6): 5-6.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2020.06.02
钟利, 但敏, 沈丽如, 金凡亚, 陈美艳, 刘彤, 邓稚
ZHONG Li, DAN Min, SHEN Li-ru, JIN Fan-ya, CHEN Mei-yan, LIU Tong, DENG Zhi
摘要: 为了研究溅射清洗工艺对基片表面特性的影响机理和规律,采用霍尔离子源产生氩离子束对基片进行溅射清洗,通过调整真空度来改变离子束的放电电压,以此对比不同放电电压下离子束清洗后基片的表面特性及制备涂层的膜基结合强度。实验结果表明,随着镀膜室内真空度的提高,离子束的放电电压逐渐升高、基片接触角值逐渐减小、基片表面粗糙度先减小后增加。制备涂层的膜基结合强度随离子束放电电压的升高呈现逐渐增加的趋势,最高可达60N。采用高能氩离子束溅射清洗后能够获得润湿性、延展性和清洁度都较为理想的基片表面,能有效提高涂层的结合性能。
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[1] | 周晓君, 韩延峰, 王法永. 喷砂除锈机理及参数优化研究[J]. 船舶工程, 2008, 30(1): 66-68. |
[2] | 陈连生, 李跃, 宋进英, 等. 热轧带钢表面氧化皮残留的拉矫破鳞及酸洗工艺优化[J]. 热加工工艺, 2017(9): 167-170. |
[3] | 余万华, 周斌斌, 陈龙. 去除氧化铁皮的新方法介绍[J]. 金属世界, 2010(3): 46-51. |
[4] | 张素银, 杜凯, 谌加军, 等. 电解抛光技术研究进展[J]. 电镀与涂饰, 2007, 26(2): 48-50. |
[5] | 杨雄, 黄利, 王海明.一种含Ni钢加热及去除氧化铁皮的方法; , CN103602925A[P]. 2014. |
[6] | Muller K H.Theoretical analysis of removal of oxides of sulphur and nitrogen in pulsed operation of electrostatic precipitators[J]. IEEE Transactions on Plasma Science, 1995, 23(4): 661-671. |
[7] | Belykh S F, Tolstogouzov A B, Lozovan A A, et al.Analysis of the conditions underlying the formation of emitted atomic ion fluxes in the nonlinear collision-cascade mode of the sputtering of metals[J]. Journal of Surface Investigation. X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques, 2015, 9(1): 172-177. |
[8] | 王树立. 等离子清洗技术在大面积磁控溅射玻璃镀膜中的应用[J]. 消费电子, 2012(7X): 229-229. |
[9] | 王敬义, 何笑明, 王宇, 等. 反应溅射中的溅射产额研究[J]. 微细加工技术, 2002(2): 33-37. |
[10] | 林莘, 李鑫涛, 徐建源. 均匀电场下SF_6气体击穿电压的数值计算及光谱实验研究[J]. 中国电机工程学报, 2016, 36(1): 301-309. |
[11] | 舒胜文, 阮江军, 黄道春. 基于电场特征量和SVM的空气间隙击穿电压预测[J]. 中国电机工程学报, 2015, 35(3): 742-750. |
[12] | Cohen-Tannoudji C, Diu B, Laloё F.量子力学[M]. 刘家谟, 陈星奎, 译. 北京; 北京高等教育出版社, 1987. |
[13] | 贾克辉, 黄建兵, 徐颖, 等. 霍尔源用于光学镀膜[J]. 光子学报, 2003, 32(10): 1228-1230. |
[14] | Gilo M, Croitoru N.Properties of TiO2 films prepared by ion-assisted deposition using a gridless end-Hall ion source[J]. Thin Solid Films, 1996, 283(1-2): 84-89. |
[15] | Kaufman H R, Cuomo J J, Harper J M E. Technology and applications of broad‐beam ion sources used in sputtering. Part I. Ion source technology[J]. Journal of Vacuum Science & Technology, 1982, 21(3): 725-736. |
[16] | Dilsiz N.Plasma surface modification of carbon fibers; a review[J]. Journal of Adhesion Science & Technology, 2000, 14(7): 975-987. |
[17] | 倪新亮, 金凡亚, 但敏, 等. 等离子体活化改善碳纤维复合材料浸润性[J]. 功能材料, 2014, 45(21): 0-0. |
[18] | 陈康华, 包崇玺. 金属/陶瓷润湿性(上)[J]. 材料科学与工程学报, 1997(3): 6-10. |
[19] | 朱定一, 张远超, 戴品强, 等. 润湿性表征体系及液固界面张力计算的新方法(Ⅱ)[J]. 科学技术与工程, 2007, 7(13): 3063-3069. |
[20] | 陈国樑. 二元化合物总原子溅射率和刻蚀速率的经验公式[J]. Journal of Semiconductors, 1987, 8(4): 395-401. |
[21] | 丁大杰. 高电荷态离子Ar, Pb在Si, Cu, W靶表面上的原子溅射研究[D]. 兰州: 兰州大学, 2007. |
[22] | 李艳峰, 于志家, 于跃飞, 等. 化学刻蚀法制备黄铜基超疏水表面[J]. 化工学报, 2007, 58(12): 3117-3121. |
[23] | 岳珠峰. 多晶体光滑表面疲劳微裂纹形核机理研究[J]. 应用数学和力学, 2004, 25(8): 809-814. |
[24] | Sundgren J E.Structure and properties of TiN coatings[J]. Thin Solid Films, 1985, 128(1): 21-44. |
[25] | Levin S.Corrosion behavior of TiN coated type 316 stainless steel in simulated PEMFC environments[J]. Corrosion Science, 2004, 46(6): 1369-1380. |
[26] | Hotchkiss K M, Reddy G B, Hyzy S L, et al.Titanium surface characteristics, including topography and wettability, alter macrophage activation[J]. Acta Biomaterialia, 2016, 31: 425-434. |
[27] | 李小兵, 刘莹. 材料表面润湿性的控制与制备技术[J]. 材料工程, 2008(4): 74-80. |
[1] | 谭飞, 林松盛, 石倩, 代明江, 杜伟, 汪云程, 吕亮. 电弧离子镀制备NiCrAlY涂层及其抗高温氧化性能*[J]. 真空, 2020, 57(5): 7-10. |
[2] | 钟利, 沈丽如, 陈美艳, 刘彤, 但敏, 金凡亚. 关于(Ti,Cr)N膜摩擦学性能的研究*[J]. 真空, 2020, 57(2): 27-32. |
[3] | 王槐乾, 姜宏伟. 磁控溅射反应法制备TiN纳米薄膜[J]. 真空, 2019, 56(4): 37-39. |
[4] | 李昊, 王东伟, 张川, 刘婵, 黄美东. 电弧离子镀Cr/CrN多层膜的耐腐蚀性研究[J]. 真空, 2019, 56(3): 21-26. |
[5] | 赵彦辉, 史文博, 刘忠海, 刘占奇, 于宝海. 电弧离子镀沉积工艺参数的影响[J]. 真空, 2018, 55(6): 49-59. |
[6] | 段永利, 邓文宇, 齐丽君, 刘 坤, 孙宝玉, 王 庆. 金属 Tb 晶界扩散对烧结钕铁硼磁性和耐温性的影响[J]. 真空, 2018, 55(6): 76-79. |
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