片上电子源的研究现状（一）*

doi:10.13385/j.cnki.vacuum.2019.06.04

真空 ›› 2019, Vol. 56 ›› Issue (6): 16-26.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2019.06.04

片上电子源的研究现状（一）^*

杨威, 魏贤龙

北京大学电子学系纳米器件物理和化学教育部重点实验室,北京 100871

收稿日期:2019-09-05 出版日期:2019-11-25 发布日期:2019-12-03
通讯作者: 魏贤龙,研究员,博士生导师。
作者简介:杨威（1993-）,男,湖北省黄冈市人,博士生。
基金资助:
国家自然科学基金（61621061、11874608）

Review on On-Chip Electron Sources

YANG Wei, WEI Xian-long

Key Laboratory for the Physics and Chemistry of Nanodevices and Department of Electronics, Peking University, Beijing 100871, China

Received:2019-09-05 Online:2019-11-25 Published:2019-12-03

摘要/Abstract

摘要： 本文主要回顾总结近数十年来片上电子源的研究工作及最新进展,包括场发射片上电子源、内场发射片上电子源以及新型热发射微型片上电子源。本文从这些片上电子源的基本原理、加工制备以及工作性能（包括工作电压、工作真空、发射电流、发射电流密度和发射效率）等方面进行比较,分析各种片上电子源的优劣点,为片上电子源的发展现状做一个简单的总结。

关键词: 片上电子源, 场发射, 内场发射, 热发射

Abstract: The article reviews and summarizes the research works in last decades and recent development of on-chip electron sources including field emission on-chip electron sources, internal field emission on-chip electron sources and new thermionic on-chip electron sources. The article compares the basic principles, fabrication and working performance of such on-chip electron sources, including working voltage, working vacuum, emission current, emission current density and emission efficiency, and analyzes the advantages and disadvantages of various on-chip electron sources. A brief summary of the development status of on-chip electron source is made through these analyses.

Key words: on-chip electron sources, field emission, internal field emission, thermionic emission

中图分类号:

TN32

杨威, 魏贤龙. 片上电子源的研究现状（一）^*[J]. 真空, 2019, 56(6): 16-26.

YANG Wei, WEI Xian-long. Review on On-Chip Electron Sources[J]. VACUUM, 2019, 56(6): 16-26.

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