一种新型高能离子注入系统的加速电源研制

doi:10.13385/j.cnki.vacuum.2018.06.04

真空 ›› 2018, Vol. 55 ›› Issue (6): 14-18.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2018.06.04

一种新型高能离子注入系统的加速电源研制

阮庆东，蒲世豪，陈常，魏于苹

核工业西南物理研究院，四川成都 610041

收稿日期:2018-03-20 出版日期:2018-11-25 发布日期:2018-12-09
通讯作者: 蒲世豪，研究员。
作者简介:阮庆东（1993-），男，四川省眉山市人，硕士生。
基金资助:
四川省青年科技创新研究团队专项计划（2016TD0015），四川省应用基础（2017JY0041），国家自然科学基金（11775073）

Development of acceleration power supply for a new type high energy ion implantation system

RUAN Qing-dong, PU Shi-hao, CHEN Chang, WEI Yu-ping

Southwestern Institute of Physics, Chengdu 610041, China

Received:2018-03-20 Online:2018-11-25 Published:2018-12-09

摘要/Abstract

摘要： 加速电源是高能离子注入系统的重要组成部分，为其离子加速提供能量。本文根据新型高能离子注入系统中加速电压 10kV-100kV 可调，离子束电流强度小于 20mA 的参数要求，对传统的加速电源结构进行改进，设计出了一台基于 DSP 控制的加速电源。论述了该电源的主电路结构：三相整流、buck 斩波调压、全桥逆变、变压器升压、倍压整流及其仿真分析。

关键词: 加速电源, 倍压整流, Saber 仿真

Abstract: The acceleration power supply is an important part of high energy ion implantation system and provides energy for ion acceleration. According to the parameter requirements of new type high energy ion implantation system with adjustable voltage from 10kV to 100kV and the ion beam current strength less than 20mA, an acceleration power supply was designed based on DSP to improve the traditional acceleration power supply structure. This paper discussed the main circuit structure of the power supply including three-phase rectifier, buck chopper voltage regulation, full bridge inverter, transformer booster, voltage doubling rectifying circuit and it's simulation analysis.

Key words: accelerator power supply, voltage- doubling rectifier, simulation analysis of saber

中图分类号:

TG434.1

阮庆东, 蒲世豪, 陈常, 魏于苹. 一种新型高能离子注入系统的加速电源研制[J]. 真空, 2018, 55(6): 14-18.

RUAN Qing-dong, PU Shi-hao, CHEN Chang, WEI Yu-ping. Development of acceleration power supply for a new type high energy ion implantation system[J]. VACUUM, 2018, 55(6): 14-18.

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Development of acceleration power supply for a new type high energy ion implantation system

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