真空 ›› 2021, Vol. 58 ›› Issue (1): 63-66.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2021.01.13
武英桐, 李晓敏, 白睿, 王东伟, 王宇, 黄美东
WU Ying-tong, LI Xiao-min, BAI Rui, WANG Dong-wei, WANG Yu, HUANG Mei-dong
摘要： 为了改善电弧离子镀薄膜表面存在的大颗粒污染问题,在真空室内附加一个与靶-基连线垂直的偏置电场,探究不同偏置电压对薄膜表面形貌、微观结构和力学性能的影响规律。结果表明,不同电压下TiN薄膜均呈晶态,沿（111）晶面择优生长,薄膜的微观结构受偏置电场的影响很小。随偏置电压增大,薄膜的结合力、显微硬度呈现先增后减趋势,在24V时均达最大值,电压进一步增大到32V时,结合力和显微硬度反而有少许下降。偏置电场可以有效改善薄膜表面形貌,当电压为32V时,薄膜表面质量最好,摩擦因数仅为0.115。
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