真空 ›› 2023, Vol. 60 ›› Issue (3): 42-45.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2023.03.06
向玉春, 朱建雷, 袁亚
XIANG Yu-chun, ZHU Jian-lei, YUAN Ya
摘要: 采用脉冲激光沉积法(PLD)在玻璃衬底上沉积CuO薄膜,研究了氧气压强对CuO薄膜结构和光学、电学性能的影响。结果表明:在氧压为3×10-3Pa,3~5Pa,和8~12Pa时,沉积的薄膜分别为单一Cu2O相、混合Cu2O/CuO相和单一CuO相;当氧压从5Pa增加到8Pa时,CuO薄膜的取向从(111)变化到(002);霍尔测试表明,在3~5Pa下沉积的CuO薄膜为p型,而在8~12Pa下沉积的薄膜为n型;氧气压强为5Pa时,薄膜电阻率较小,载流子浓度最大。
中图分类号: O484
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