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真空 ›› 2025, Vol. 62 ›› Issue (5): 58-62.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2025.05.09

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集成电路离子注入用低温泵*

冯欣宇1,2, 程祥2, 杨杨2   

  1. 1.中国电子科技集团公司第十六研究所,安徽 合肥 230088;
    2.安徽万瑞冷电科技有限公司,安徽 合肥 230088
  • 收稿日期:2024-10-28 发布日期:2025-09-29
  • 作者简介:冯欣宇（1982-）,男,山西大同,硕士,高级工程师。
  • 基金资助:
    *国家科技重大专项（2014ZX02001-003）

Cryopump for Ion Implanter in IC Manufacturing

FENG Xinyu1,2, CHENG Xiang2, YANG Yang2   

  1. 1. The 16th Research Institute of China Electronics Technology Group Corporation, Hefei 230088, China;
    2. Vacree Technologies Co., Ltd., Hefei 230088, China
  • Received:2024-10-28 Published:2025-09-29

摘要： 结合集成电路离子注入机台对于低温泵抽气性能与安全防护的严苛要求,介绍了离子注入用低温泵的主要性能指标、机械结构与电气系统特点、应用配置及特殊的安全吹扫流程。与PVD用低温泵相比,离子注入用低温泵口径更大,对氢气抽速与容量的要求更高,其通过冷板与吸附阵结构设计优化了氢气抽速与容量。离子注入用低温泵控制系统设有电源切换单元和后备电池模块,独特的安全吹扫流程保证氢气能够安全排出,降低了爆炸风险。

关键词: 集成电路, 离子注入, GM制冷机, 低温泵, 安全吹扫

Abstract: Based on the strict requirements of ion implanter for pumping performance and safety protection of cryopump, the main performance index, mechanical structure and electrical system characteristics, application configuration, and unique safety purge sequence of cryopump for ion implantation were introduced. Compared with the cryopump for PVD, the cryopump for ion implantation has a larger diameter and higher requirements for hydrogen pumping speed and capacity. The hydrogen pumping speed and capacity are optimized by the structure design of cold plate and adsorption array. The control system of cryopump for ion implantation has a power switching unit and a backup battery module, and the unique safe purging process ensures that hydrogen can be safely discharged and reduces the risk of explosion.

Key words: integrated circuit, ion implanter, GM refrigerator, cryopump, safety purge

中图分类号:  TP23

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