真空 ›› 2025, Vol. 62 ›› Issue (1): 62-66.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2025.01.10
唐榕, 卢少波, 韩永超
TANG Rong, LU Shaobo, HAN Yongchao
摘要： 半导体设备的洁净度对器件性能极为重要,真空环境下悬浮颗粒和残余气体含量低,更接近于真正的清洁真空。洁净真空环境的获得与保持是半导体工业生产的关键,涉及多种学科和技术。本文从腔室材料选择、腔室设计和制造、内表面清洗和检测技术、包装和转运等方面详细介绍了洁净真空系统工艺设备的研制过程。所研发的设备在带载情况下可快速获得1×10-4 Pa工作真空度,残余气体和颗粒度指标均满足工艺要求。
中图分类号: TH69
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