第二十二 讲化学气相沉积（CVD）技术

doi:10.13385/j.cnki.vacuum.2023.02.15

真空 ›› 2023, Vol. 60 ›› Issue (2): 86-88.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2023.02.15

• 真空技术应用系列讲座 • 上一篇下一篇

第二十二讲化学气相沉积（CVD）技术

张以忱

出版日期:2023-03-25 发布日期:2023-03-27

Online:2023-03-25 Published:2023-03-27

摘要/Abstract

中图分类号:

O484

张以忱. 第二十二讲化学气相沉积（CVD）技术[J]. 真空, 2023, 60(2): 86-88.

参考文献

相关文章 15

[1]	张汉焱, 郑丹旭, 沈奕, 陈玉云. 中频磁控反应溅射氧化硅（SiOx）薄膜绝缘性的研究^*[J]. 真空, 2023, 60(2): 34-38.
[2]	张以忱. 第二十二讲化学气相沉积（CVD）技术[J]. 真空, 2023, 60(1): 86-88.
[3]	刘祺, 徐均琪, 苏俊宏, 韩刚, 李阳, 袁松松. 热蒸发技术制备梯度折射率薄膜的研究^*[J]. 真空, 2022, 59(6): 22-28.
[4]	张健, 齐振华, 李建浩, 牛夏斌, 徐全国, 宗世强. 磁控溅射法制备ITO膜层及其光电性能研究[J]. 真空, 2022, 59(6): 45-50.
[5]	赵琦, 满玉岩, 李苏雅, 李松原, 李琳. 面向干式电抗器的氟碳纳米结构薄膜性能调控方法研究^*[J]. 真空, 2022, 59(6): 51-55.
[6]	张以忱. 第二十一讲真空卷绕镀膜[J]. 真空, 2022, 59(5): 102-104.
[7]	张以忱. 第二十一讲真空卷绕镀膜[J]. 真空, 2022, 59(4): 86-88.
[8]	张以忱. 第二十一讲真空卷绕镀膜[J]. 真空, 2022, 59(3): 86-88.
[9]	张以忱. 第二十一讲真空卷绕镀膜[J]. 真空, 2022, 59(2): 85-88.
[10]	祝维, 陆群旭, 钱维金, 黄卫军, 董长昆. 新型碳纳米管微焦点电子源研究^*[J]. 真空, 2022, 59(1): 48-53.
[11]	段珊珊, 施昌勇, 杨丽珍, 刘忠伟, 张海宝, 陈强. 原子层沉积法制备Al₂O₃薄膜研究近况和发展趋势[J]. 真空, 2021, 58(6): 13-20.
[12]	朱蓓蓓, 倪昌, 秦琳, 楚建宁, 陈肖, 许剑锋. 基于磁控溅射的纳米金属薄膜沉积工艺研究^*[J]. 真空, 2021, 58(6): 21-26.
[13]	贺平, 张旭, 杨洋. 不同基体材料筒体内壁磁控溅射膜层工艺研究[J]. 真空, 2021, 58(6): 33-37.
[14]	宋光辉, 李文龙, 王银河, 胡雯雯, 姚春龙, 刘海涛. 宽角度入射近紫外反射镜的膜系优化设计与制备[J]. 真空, 2021, 58(6): 38-42.
[15]	杨曌, 罗俊尧, 李保昌, 李淑华, 沓世我, 付振晓, 宁洪龙. 复合金属薄膜层对金丝键合性能的影响[J]. 真空, 2021, 58(6): 43-47.

Metrics

Viewed

Full text

Abstract

Cited

Shared

Discussed

本文评价

推荐阅读 10

[1]	李得天, 成永军, 张虎忠, 孙雯君, 王永军, 孙健, 李刚, 裴晓强. 碳纳米管场发射阴极制备及其应用研究[J]. 真空, 2018, 55(5): 1 -9 .
[2]	周彬彬, 张建, 何剑锋, 董长昆. 基于 CVD 直接生长法的碳纳米管场发射阴极[J]. 真空, 2018, 55(5): 10 -14 .
[3]	柴晓彤, 汪亮, 王永庆, 刘明昆, 刘星洲, 干蜀毅. 基于 STM32F103 单片机的单泵运行参数数据采集系统[J]. 真空, 2018, 55(5): 15 -18 .
[4]	李民久, 熊涛, 姜亚南, 贺岩斌, 陈庆川. 基于双管正激式变换器的金属表面去毛刺 20kV 高压脉冲电源[J]. 真空, 2018, 55(5): 19 -24 .
[5]	刘燕文, 孟宪展, 田宏, 李芬, 石文奇, 朱虹, 谷兵, 王小霞 . 空间行波管极高真空的获得与测量[J]. 真空, 2018, 55(5): 25 -28 .
[6]	徐法俭, 王海雷, 赵彩霞, 黄志婷. 化学气体真空 - 压缩回收系统在环境工程中应用研究[J]. 真空, 2018, 55(5): 29 -33 .
[7]	谢元华, 韩进, 张志军, 徐成海. 真空输送的现状与发展趋势探讨（五）[J]. 真空, 2018, 55(5): 34 -37 .
[8]	孙立志, 闫荣鑫, 李天野, 贾瑞金, 李征, 孙立臣, 王勇, 王健, 张强. 放样氙气在大型收集室内分布规律研究[J]. 真空, 2018, 55(5): 38 -41 .
[9]	黄思 , 王学谦 , 莫宇石 , 张展发 , 应冰 . 液环压缩机性能相似定律的实验研究[J]. 真空, 2018, 55(5): 42 -45 .
[10]	常振东, 牟仁德, 何利民, 黄光宏, 李建平. EB-PVD 制备热障涂层的反射光谱特性研究[J]. 真空, 2018, 55(5): 46 -50 .

第二十二讲化学气相沉积（CVD）技术

摘要/Abstract

引用本文

使用本文

参考文献

相关文章 15

Metrics

本文评价

推荐阅读 10

第二十二 讲化学气相沉积（CVD）技术

摘要/Abstract

引用本文

使用本文

参考文献

相关文章 15

Metrics

本文评价

推荐阅读 10

第二十二讲化学气相沉积（CVD）技术