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真空 ›› 2021, Vol. 58 ›› Issue (3): 51-54.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2021.03.10

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磁控溅射中旋转阴极的对角效应及其解决途径

余华俊, 赵习军, 武瑞军   

  1. 吴江南玻华东工程玻璃有限公司,江苏 苏州 215222
  • 收稿日期:2020-07-16 出版日期:2021-05-25 发布日期:2021-06-01
  • 作者简介:余华俊(1967-),男,湖北省孝感市人,高级工程师。

Solutions for Asymmetrical Target Erosion Due to Cross-Cathode Effect

YU Hua-jun, ZHAO Xi-jun, WU Rui-jun   

  1. Wujiang CSG HuaDong Architectural Glass Co., LTD, SuZhou 215222, China
  • Received:2020-07-16 Online:2021-05-25 Published:2021-06-01

摘要: 对角效应是一种存在于磁控溅射中,由于阳极的不对称分布而引起的一种不对称刻蚀的现象,表现为靠近阳极的一侧溅射跑道沿着霍尔电流方向的转角刻蚀明显增强,而另一侧对应转角刻蚀相对较弱,如为双靶时,表现为沿对角线方向刻蚀增强的现象,导致靶材的不均匀刻蚀及靶材利用率降低。文章研究了这种现象,对其成因进行了分析,并进一步阐明了如何避免这种效应影响的方法。

关键词: 磁控溅射, 不对称溅射, 靶材利用率, 对角效应

Abstract: Asymmetrical accelerated erosion of one of the two turnarounds on each target in a cathode pair is due to the asymmetrical anode arrangement.The side of the racetrack closest to the anode builds a stronger plasma that travels in the hall current direction and is dragged into the turnarounds leading to a higher erosion rate.The side of the racetrack,that is furthest from the anode,does not carry as much energy into the turnarounds and thus does not erode the target as much.This phenomenon is called Cross-Cathode effect.This article analyzes the Cross-Cathode effect and discusses how to minimize the Cross-Cathode effect.

Key words: magnetron sputtering, asymmetrical sputtering, target utilization, Cross-Cathode effect

中图分类号: 

  • TB79
[1] 李明亮, 刘利, 沈燕. Ag层厚度对AZO/Ag/AZO透明导电薄膜性能的影响[J]. 真空, 2020, 57(1): 31-34.
[2] 聂鹏. 磁控溅射技术简介及其应用[J]. 数字化用户, 2019, 25(16): 192.
[3] 石晓倩, 于荣环, 乌云额尔德尼, 等. 大连交通大学学报, 2019, 40(4): 108-111.
[4] 孙艳, 倪庆宝, 张化福, 等. 靶基距对ZnMgO:Ti透明导电薄膜性能的影响[J]. 山东理工大学学报, 2019, 33(3): 43-46.
[5] 于敏. 溅射靶材概述[J]. 金属材料研究, 2019, 45(1): 1-7.
[6] 赵向杰. 磁控溅射镀膜技术的研究及发展趋势[J]. 合成材料老化与应用, 2020, 49(2): 120-122.
[7] 张钦英, 陈颢, 任兴润, 等. Al靶溅射功率对CrAlN涂层组织结构及摩擦性能的影响[J]. 有色金属科学与工程, 2017, 8(5): 109-114.
[8] ANTON R, LASKA N, SCHULZ U, et al.Magnetron supttered silicon coatings as oxidation Protection for Mo-based alloys[J]. Advanced Engineering Materials, 2020, 22(7): 19-21.
[9] POLISHCHUK V A, TOMAEV V V, LEONOV N B.Formation of Zn films by magnetron sputtering on glass,quartz and silicon substrates[J]. Journal of Surface Investigation X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques, 2020, 14(3): 459-463.
[10] VU T D, LIU S Y, ZENG X T, et al.High-power impulse magnetron sputtering deposition of high crystallinity vanadium dioxide for thermochromic smart windows applications[J]. Ceramics International, 2020, 46(6): 8145-8153.
[11] ŞENAY V, ÖZEN S, AYDOGMU Ş T. Optical and surface properties of ZnN thin films manufactured by radio frequency reactive magnetron sputtering[J]. Optik-International Journal for Light and Electron optics. 2019, 191: 15-21.
[12] DHAGE S R, BADGUJAR A C.Transparent conducting Al: ZnO thin films on large area by efficient cylindrical rotating DC magnetron sputtering[J]. Journal of Alloys and Compounds, 2018, 763: 504-511.
[13] AROCKIADOSS T, KOVENDHAN M, JOSEPH D P, et al.DC magnetron sputtered aligned ITO nano-rods with the influence of varying oxygen pressure[J]. Applied Surface Science, 2018, 449: 39-47.
[14] RASHID H, RAHMAN K S, HOSSAIN M I, et al.Physical and electrical properties of molybdenum thin films grown by DC magnetron sputtering for photovoltaic application[J]. Results in Physics, 2019, 14: 34-38.
[15] POTERA P, WISZ G, ŁUKASZ S.Optical properties of AlN layers obtained by magnetron sputtering. Materials Science-Poland, 2018, 36(4): 717-721.
[1] 杨子淑, 段苹, 邓金祥, 张晓霞, 张杰, 杨倩倩. 不同浓度的Mg掺杂β-Ga2O3薄膜的制备与研究*[J]. 真空, 2021, 58(3): 30-34.
[2] 陈志涛. 四米槽式太阳能真空集热管镀膜设备的发展概述[J]. 真空, 2021, 58(2): 20-26.
[3] 张玉琛, 张海宝, 陈强. 高功率脉冲磁控溅射制备ZnO薄膜的研究进展*[J]. 真空, 2021, 58(1): 72-77.
[4] 吴键坤, 李兆国, 彭丽萍, 易勇, 张继成. 氮分压对ZrN薄膜结构及颜色的影响[J]. 真空, 2021, 58(1): 57-62.
[5] 王坤, 王世庆, 李建, 但敏, 陈伦江. 磁控溅射制备紧固件防咬死涂层的厚度均匀性研究*[J]. 真空, 2021, 58(1): 67-71.
[6] 戴永喜, 杨倩倩, 邓金祥, 孔乐, 刘红梅, 杨凯华, 王吉有. 不同Si含量掺杂的ZTO薄膜的制备与研究[J]. 真空, 2020, 57(6): 23-26.
[7] 韦贤露, 巩晨阳, 肖剑荣. 射频反应磁控溅射制备MoS2薄膜结构及光学性能*[J]. 真空, 2020, 57(5): 11-13.
[8] 王朝勇, 李伟, 王凯宏, 李宗泽, 刘志清, 余晨生, 王新练,王小妮,吴昊,马培芳. 直流磁控溅射制备锐钛矿TiO2薄膜生长速率的研究及其在多层膜制备中的应用*[J]. 真空, 2020, 57(5): 19-23.
[9] 王晓明, 鄂东梅, 武俊生, 张绪跃, 周艳文. 基于等离子体在磁控溅射增强的模拟*[J]. 真空, 2020, 57(3): 5-6.
[10] 张庆芳, 易勇, 罗江山. 溅射功率对铒薄膜微观结构的影响*[J]. 真空, 2020, 57(3): 17-20.
[11] 王忠连, 任少鹏, 阴晓俊, 王瑞生, 高鹏, 班超, 胡雯雯. 波长渐变滤光片的设计与测试探讨[J]. 真空, 2020, 57(1): 21-25.
[12] 吴厚朴, 田钦文, 田修波, 巩春志. 新型双极性高功率脉冲磁控溅射电源及放电特性研究*[J]. 真空, 2019, 56(6): 1-6.
[13] 廖荣, 邓永健, 王家驹, 赵飞兰, 郑若茜, 刘慧君, 柯嘉聪. 高介电氧化铪薄膜的制备与性能研究*[J]. 真空, 2019, 56(5): 52-55.
[14] 巫仕才, 尚心德. 柔性镀膜材料在电路板行业的应用[J]. 真空, 2019, 56(5): 65-68.
[15] 罗俊尧, 刘光壮, 杨曌, 李保昌, 沓世我. 镍铬硅薄膜电阻层的磁控溅射及湿法刻蚀工艺研究[J]. 真空, 2019, 56(5): 61-64.
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