真空 ›› 2020, Vol. 57 ›› Issue (5): 19-23.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2020.05.05
王朝勇1,2, 李伟1,2, 王凯宏1, 李宗泽1, 刘志清1,2, 余晨生1, 王新练1,王小妮3,吴昊1,马培芳4
WANG Zhao-yong1,2, LI Wei1,2, WANG Kai-hong1, LI Zong-ze1, LIU Zhi-qing1,2, YU Chen-sheng1, WANG Xin-lian1,2, WANG Xiao-ni3, WU Hao1, MA Pei-fang4
摘要: 利用直流磁控溅射技术(DCMS)制备锐钛矿TiO2薄膜,研究了工艺参数中的衬底温度、压强和溅射功率对TiO2薄膜的沉积速率的影响,利用场发射扫描电镜(FESEM)、X射线衍射仪(XRD)和椭圆偏振光测试仪表征了样品的表面形貌、结构和膜厚,实验结果表明:利用DMS制备薄膜为单一的的锐钛矿结构,表面组成颗粒均匀。随着沉积温度的增加,薄膜的沉积速率从100℃的2.16nm/min增加至400℃的4.03nm/min;压强增加,薄膜的沉积速率降低,0.75Pa、1.5Pa和3.0Pa条件下的沉积速率分别为4.48nm/min、 3.18nm/min和2.42nm/min;溅射功率增加,沉积速率提高,100W、295W和443W对应的沉积速率分别为2.95nm/min、3.18nm/min和7.50nm/min。最后用TFC膜系设计软件在玻璃基底上设计了双层TiO2薄膜,利用设计结果制备了薄膜,实验值和理论设计结果非常吻合。
中图分类号:
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