真空 ›› 2022, Vol. 59 ›› Issue (3): 52-56.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2022.03.11
常振东1, 邓仲华2, 孙荣臻2, 牟仁德1, 胡江玮2
CHANG Zhen-dong1, DENG Zhong-hua2, SUN Rong-zhen2, MU Ren-de1, HU Jiang-wei2
摘要: 为了研究基体表面形貌对PVD方法制备的涂层与基体结合性能的影响,观察了喷砂处理后基体表面的显微形貌,测试了涂层与基体的结合力,测量了沉积完成后涂层的物相及硬度,并对不同基体表面形貌对涂层结合性能的影响机理作了分析研究。结果表明:水喷砂和干喷砂处理后,基体表面均形成“V”型凹槽形貌,分别表示为θ1型和θ2型(θ1<θ2,θ为凹槽开口宽度与槽深之比);不同表面形貌对涂层与基体的结合性能影响较大,但不会改变涂层的物相结构,不影响涂层的致密度和本征应力;根据形核机理,θ1型时,在“V”型槽上部边缘处形核生长的原子阻碍其他原子大量进入,导致“V”型槽底部中空;而θ2型时,大量原子进入槽中,伴随着原子的扩散运动,形成了几乎完全填满的“V”型槽结构,从而增大了涂层与基体的结合面积,提升了涂层与基体的结合性能。
中图分类号:
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