真空 ›› 2025, Vol. 62 ›› Issue (2): 68-76.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2025.02.11
绪方洁1, 铃木泰雄1, 毕婷婷2
OGATA Kiyoshi1, SUZUKI Yasuo1, BI Tingting2
摘要: 介绍了等离子注入成膜(PIAD)方式的原理和特征,即通过高频放电使原料气体离化而生成离子,然后将其注入到施有高压脉冲电压的基材中。描述了用PIAD方式成膜的类金刚石(DLC)薄膜的特征和应用案例,结果表明PIAD方式可以通过脉冲电压和其他成膜参数控制DLC薄膜中sp2结构石墨层以及sp3结构金刚石层的生长,因此可以制备出具有耐腐蚀性和导电性功能的DLC薄膜。重点介绍了关于PIAD方式功能性DLC薄膜在燃料电池金属双极板表面处理上的应用研究成果。
中图分类号: O484
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