第二十二讲 化学气相沉积（CVD）技术

doi:10.13385/j.cnki.vacuum.2024.01.15

摘要/Abstract

摘要： 微波等离子体 CVD法是制备优质金刚石薄膜的好方法。在微波 CVD装置中,极高频率的微波电场将使气体放电产生等离子体。等离子体中电子的快速往复运动进一步撞击气体分子,使得气体分子分解为 H^*和各种活性基团。这些大量的原子氢和活性的含碳基团是用低温低压的 CVD方法沉积金刚石所必需的。

中图分类号: O484;TB43

张以忱. 第二十二讲化学气相沉积（CVD）技术[J]. 真空, 2024, 61(1): 87-88.

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