真空 ›› 2024, Vol. 61 ›› Issue (2): 16-21.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2024.02.03
尹翔1, 陈世斌1, 张艳鹏1, 刘旭1, 龙连春2
YIN Xiang1, CHEN Shi-bin1, ZHANG Yan-peng1, LIU Xu1, LONG Lian-chun2
摘要: 在卷绕蒸镀设备生产过程中,电子束引起的较高能二次电子会影响复合集流体的质量。较高能二次电子的发射率与电子束的入射角在一定范围内成正比,因此利用额外磁场可以使电子束轨迹发生偏置,从而减小入射角。本文依靠仿真软件及CAD建模技术对电磁偏置线圈进行了开发设计,通过参数优化,得到匹配的磁场强度以及电子偏置轨迹,成功完成电子偏置线圈的设计。同时对电磁线圈参数对偏置的影响进行了对比分析。结果表明:增加电磁线圈的电流、匝数、尺寸、数量,以及减少线圈与电子枪的距离,都能减少电子束偏置半径。通过优化这些参数可以得到预定入射角度,实现低的二次电子发射率,为将来设备的迭代升级提供设计依据。
中图分类号: TB43
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