真空 ›› 2023, Vol. 60 ›› Issue (4): 8-12.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2023.04.02
张艳鹏, 曹志强, 付强, 曹磊, 刘旭
ZHANG Yan-peng, CAO Zhi-qiang, FU Qiang, CAO Lei, LIU Xu
摘要: 为改善锂离子电池用镀铜复合集流体的电学性能,通过控制卷绕磁控溅射走带速度、阴极功率、工艺压强、线性离子源前处理参数、NiCr打底层厚度等工艺条件,在有机基材表面沉积铜膜,通过四探针方阻测量仪测定镀铜层方阻值,得到了不同工艺参数对镀铜层方阻的影响规律。结果表明:随走带速度增加,方阻值呈二次方增大;随阴极功率增加,方阻值呈幂次方降低;工艺压强0.13~0.45Pa范围内,方阻值在0.2Pa时达到最低;离子源电流0~0.7A范围内,方阻值随离子源电流增大线性降低;NiCr打底层能够改善镀铜层的方阻,6.7nm厚的NiCr打底样品较无打底层样品方阻值降低23.2%。
中图分类号: TB43
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