真空 ›› 2025, Vol. 62 ›› Issue (6): 25-30.doi: 10.13385/j.cnki.vacuum.2025.06.04
张贤旺, 张健
ZHANG Xianwang, ZHANG Jian
摘要： 通过控制变量,采用射频磁控溅射法在玻璃基底上制备了氧化硅薄膜。利用台阶仪和光谱仪探究了气体压力、基底温度和溅射功率等工艺参数对氧化硅薄膜厚度、粗糙度和透光率的影响。结果表明,溅射气压为0.8 Pa、基片温度为150 ℃、溅射功率为310 W时薄膜粗糙度最低;溅射气压为0.8 Pa、基片温度为250 ℃、溅射功率为250 W时薄膜透光率最高。
中图分类号: TB43
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